Destillation, Desorption, Strippen
Korrosives Gas in saurer Lösung durch Absorption mit Wasser
Anwendung
Typische Verwendungszwecke für reines HCl-Gas sind die Herstellung von hochreinem Silizium für Solarzellen oder elektronische Anwendungen. HCl-Gas wird in der organischen Chemie und verschiedenen metallurgischen Prozessen verwendet.
Produkt-Informationen
- Erzeugung von HCl-Gas > 6 barG durch Strippanlage
- Prozessausrüstung aus korrosionsbeständigem Material wie Graphilor®3, Tantal CL-Clad® oder Armylor®
- Armylor®-Rohrleitungen
- Instrumentierung
- Technische Dokumentation
- Option: Skid-Paket
Leistungsbereich: 1,5 bis 200 t/d auf 100% HCl-Basis
Kundenvorteil
- Maßgeschneiderte Lösung zur Optimierung Ihrer Capex / Opex entsprechend Ihrer Versorgungseinrichtungen
- Bewährte Lösung im Einsatz
- Erfahrener Partner
- Zuverlässige und korrosionsbeständige Lösung
Kontakt Deutschland
Vertrieb
D-79689 Maulburg
+49 (7622) 6751 0
Sales engineering department
54530 - Pagny-sur-Moselle
+33 (0)3 83 81 60 81
Sales & Engineering
CH-3006 Bern
+41 31 337 43 41
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201411 Shanghai
+86 21 57 52 77 77
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