Halbleiter-Prozessanlagen

Die Technik der Ionenimplantation dient in der Halbleiterindustrie dazu, die Zusammensetzung und physikalischen Eigenschaften eines Substrats lokal zu verändern. Dazu werden Dotierstoffe wie Bor, Phosphor und Arsen „eingeschossen“.

Die Elektroden und Schutzschilde aus Graphit an diesen Maschinen sind durch den Ionenbeschuss erheblicher Erosion ausgesetzt.

• Der feinkörnige und hochdichte ultrareine Graphit ist sehr beständig gegen Erosion.
• Mersen hat auch eine Glaskohlenstoffimprägnierung „VCI“ entwickelt, um die Festigkeit dieser Teile weiter zu erhöhen und gleichzeitig die Partikelemissionen zu verringern.

Mersen proposes equipment made of ultra-pure graphite coated with silicon carbide.
These dedicated solutions are the fruit of our expertise in materials and precision machining:

• Ultra-pure graphite grades checked by ETV-ICP.
• The compatibility (CTE) of our graphite grades with silicon carbide guarantees long term integrity of the protective coating.
• Our precision machining process undergoes three-dimensional examination to ensure that the design of highly complex parts is respected.